武汉科学技术馆于2010年1月18日至2010年2月13日通过网站、报纸等新闻媒体面向社会公开征集馆徽以来，受到广泛关注, 各界人士踊跃投稿，共征集到设计方案270件。武汉科技馆通过审核、专家初评，选出9件入围作品，经网上市民入围评选和知名专家终评，评选敲定武汉科技馆LOGO标志设计方案最佳作品空缺，优秀作品4件。
    1、本次征集开启所征集的创作作品大部分的创意及设计都是优秀的，但是部分作品在实用性、可实现性等方面尚有欠缺，本着精益求精、宁缺毋滥的原则，故武汉科技馆馆徽征集开启最佳作品奖空缺。 
   武汉科学技术馆入选优秀馆徽作品中选详情.doc 
    2、若投稿作品产生侵权行为，所有责任均由投稿者承担，武汉科技馆不承担任何责任并有权撤销投稿者获奖资格、追回奖金。 
    3、相关解释权归武汉科技馆所有。 
    4、武汉科技馆将对获奖作品进行奖励，每件作品奖励人民币3000元。请作品作者于2010年4月30日前与武汉科技馆馆徽征集办公室联系。联系电话：027—82281050。 
   特此公示。 
   附件： 

                                                武汉科学技术馆 
    几点说明 
                                                 2010年4月17日 

http://www.whkx.org.cn/newsdel.asp?id=10368